好消息!中芯国际再突破,国产DUV光刻机迎来历史性时刻!
结合媒体报道以及知情人士透露,首台国产DUV光刻机正在测试,需要强调一下,这是中国首款5nm光刻机,且首次测试的结果也是令人惊喜且满意的。只不过,这次测试的还是原型机,至于什么时候可以投产,暂时还不知道。
可能有些网友会疑问,这台光刻机有啥特别之处吗?怎么才能制造出5nm芯片?特别之处就在于,它是中国大陆首台采用浸没式技术的光刻机,这项技术就是ASML公司所采用的同款技术。虽然原型机是28nm的DUV光刻机设备,但通过多重曝光的方式,就可以生产出14nm、7nm甚至更高制程工艺的芯片。
还有一个重点是,这台设备的关键零部件基本已经实现了国产化,也就是说,如果这台设备可以实现量产的话,那么咱们从ASML公司进口的“过时”光刻机就会少很多,可以不再依赖进口,不用看人脸色,花大钱办小事了,最重要的是可以突破美芯片制造设备出口的限制和卡脖。
值得一提的是,有了这台28nm光刻机,实现7nm制程,就意味着,需求量巨大的车规级芯片、AI芯片等的产能都能够大幅提升。说到这里,很多人肯定会联想到华为手机,没错,华为麒麟芯片的产能跟得上的话,就再也不用抢华为Mate、Pura系列了,或许这一次,咱们可以看到麒麟9030?可以期待一下。
当然了,DUV光刻和EUV光刻机相比,还是有一定的技术差距,但需要搞清楚的是,中国芯片产业本就是“走一步看一步”的阶段,目前最主要的目标就是在成熟芯片领域实现自给自足,先进领域暂时还只能观望。而DUV光刻机技术的突破,这意义是不是更重要?
一方面,DUV光刻机所生产的成熟工艺芯片,可以满足市场绝大部分的需求,比如手机芯片、车规级芯片、AI芯片以及军工芯片等,全都可以生产。这有利于帮助中国科技产业实现芯片自由。
另一方面,一旦中国自研DUV光刻机成功,这就意味着,中国可以把光刻机的价格打下来。要知道,咱们每年从ASML公司进口的光刻机金额高达数十亿乃至数百亿美元,供应给大陆的光刻机设备相对是比较落后的,但价格却奇高,这也让很多中国科学家和工程师们心里憋了一口气。所以,攻克DUV光刻机,已经成为科技人才的共同使命和责任。
此前,项立刚就说过,他预测国产DUV光刻机最晚2026年自研成功,EUV光刻机最晚2028年自研成功,且这个时间只会提前不会推迟,现在看来,果然如此!
虽然光刻机的构造极其复杂,但说到底,它也只是一个产品、一部机器、一台设备而已,都是人造出来的。中国之所以在光刻机领域是空白的,就是因为之前没有市场、没有需求,花了精力、资金造出来卖不掉,谁会做这种赔本的买卖呢?
现如今,中国遭遇了美西方的技术封锁,形势已经变了,只能自己干,且需要自己干。在这种变化之下,越来越多的企业挺身而出,新的企业、新的团队、新的使命感,在多重因素的推动下,我们相信,自研光刻机必定会成功。
当然了,我们虽然不知道国产DUV光刻机何时能够量产?良品率如何?和ASML公司的DUV光刻机有多少差距?但从中芯国际对此项目的命名“珠穆朗玛”就能知道,中国科技企业一定会征服这座世界高峰,让我们拭目以待吧!
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